金融界2025年7月29日消息，国家知识产权局信息显示，泰晶科技股份有限公司申请一项名为“一种PVD掩膜结构及工艺”的专利，公开号CN120384258A，申请日期为2025年04月膜结构 。
专利摘要显示，本发明提供一种PVD掩膜结构及工艺，PVD掩膜结构包括依次间隔分布的基片、带有掩膜窗口的掩膜版和靶材气化源，所述掩膜版与所述基片彼此相对的两个面间隔的距离大于所述基片上镀层的厚度，其中，所述掩膜窗口的形状与所述镀层形状相似，并且所述掩膜窗口在其所处平面内的任意方向上的尺寸小于所述镀层在其所处平面内的对应方向上的尺寸膜结构 。本方案中通过将所述掩膜版与所述基片间隔分布，并使所述掩膜版与所述基片彼此相对的两个面间隔的距离大于所述基片上镀层的厚度，当本方案应用于石英音叉加重工艺时，能够避免现有技术中存在的由于掩膜版贴合于基片表面时会发生基片上镀层边缘与掩膜版窗口粘连从而导致的在取下掩膜版时会发生银屑问题。
天眼查资料显示，泰晶科技股份有限公司，成立于2005年，位于随州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业膜结构 。企业注册资本38932.2772万人民币。通过天眼查大数据分析，泰晶科技股份有限公司共对外投资了13家企业，参与招投标项目31次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息211条，此外企业还拥有行政许可112个。
来源：金融界